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07 2月, 2024, 09:00 CST Toppan Photomask與IBM簽署半導體EUV光罩聯合研發協議

居於全球領先地位的半導體光罩供應商Toppan Photomask宣布已與IBM就使用極紫外(EUV)光刻技術的2奈米(nm)節點邏輯半導體光罩的聯合研發達成協議。該協議尚包含開發用於下一世代半導體的高NA EUV光罩。 根據該協議，從2024年第1季起的5年內，IBM和Toppan...

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