Beneq renforce sa position de leader dans l'ALD industriel à gros volume

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ESPOO, Finlande, July 20, 2016 /PRNewswire/ --

Nouveaux produits Beneq R11™ et Beneq T2S™ présentés lors d'ALD2016

Beneq, le fournisseur leader d'équipement ALD et de services de revêtement par film fin, a annoncé aujourd'hui deux nouvelles solutions d'équipement de film fin pour les clients industriels qui requièrent une grande capacité et de faibles coûts de processus dans les applications ALD avancées. Les nouveaux produits sont conçus pour révolutionner les normes de vitesse de revêtement dans l'industrie ALD.  

Beneq R11™ - Revêtement ALD spatial ultra-rapide et de grande précision  

Beneq R11 est le dernier né du portefeuille complet Beneq de solutions ALD spatiales à haut rendement et à usage industriel. Il fournit une solution optimale pour l'ALD ultra-performant sur les wafers dans les applications industrielles. Il s'agit de l'équipement idéal lorsque la vitesse, une faible température de processus et la qualité maximale du film sont des facteurs essentiels.

Grâce à Beneq R11, il est possible d'utiliser pour la première fois des processus PEALD (ALD enrichi de plasma) dans la production de grands volumes. Le système se fonde sur les applications de barrière, d'isolation et anti-corrosion pour MEMS, LED, OLED, photovoltaïques, semi-conducteurs ultra-puissants, capteurs et bien d'autres.

Beneq T2S™ - Équipement automatisé de lots de wafer  

Beneq T2S est le dernier membre du portefeuille d'équipement de production basé sur les wafer de Beneq. Il propose une combinaison unique de traitement des lots de grande capacité et d'automatisation cassette-à-cassette. Le Beneq T2S est spécialement conçu pour satisfaire aux exigences des semi-conducteurs, notamment aux exigences de sécurité SEMI S2 et aux faibles nombres de particules.

Beneq T2S est parfaitement adapté à la fabrication de grands volumes dans les applications basées sur les wafer, dont les MES, LED, OLED, têtes d'impression à jet d'encre et plus encore. Le processus de lots thermiques ALD de Beneq T2S est idéal pour les processus avec oxyde et nitrure utilisés à des fins diélectriques, de conducteurs, de barrières et de passivation.

Nouveaux produits officiellement présentés au salon ALD2016 en Irlande  

Les deux nouveaux produits, Beneq R11 et Beneq T2S, seront officiellement présentés la semaine prochaine au salon ALD2016 - il s'agit de la 16^e Conférence internationale sur l'Atomic Layer Deposition à Dublin, Irlande.

TBeneq^® est le fournisseur leader d'équipement ALD et de services de revêtement à film fin. C'est également le premier fabricant au monde d'écrans électroluminescents à film fin à base d'ALD. 

Les solutions de film fin Beneq améliorent la performance et la durabilité de l'électronique, de l'optique et des matériaux sensibles et les protègent de l'humidité, de la corrosion et du ternissement.  

Les écrans solides, transparents et personnalisés Lumineq^® de Beneq sont utilisés dans une large gamme d'applications dans des conditions extrêmes. Les écrans entièrement transparents Lumineq TASEL^® combinent une fiabilité supérieure avec une expérience de vision toute en transparence.  

http://www.beneq.com
http://www.beneq.com/beneq-r11.html
http://www.beneq.com/beneq-t2s.html

Pour de plus amples informations :
Matias Impivaara, directeur marketing et communications, +358-9-7599-530.